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Cari Amici e Colleghi,
è per me un grande onore invitarvi al 62° Congresso Nazionale ADOI, che si terrà a Firenze dal 17 al 19 settembre 2026, presso la prestigiosa sede del Palazzo dei Congressi. L’edizione di quest’anno nasce con una speciale impronta scientifica, in linea con l’evoluzione rapida e costante della dermatologia clinica, diagnostica e terapeutica. È in fase di elaborazione un programma ricco, aggiornato e spero stimolante che darà spazio alle più recenti evidenze scientifiche, alle innovazioni tecnologiche e agli approcci multidisciplinari nella gestione delle principali patologie dermatologiche.
Saranno previste sessioni plenarie, focus tematici, corsi teorico-pratici e tavole rotonde, casistica clinica in grado di offrire contenuti di elevata qualità di aggiornamento a tutti i livelli di esperienza, con un’attenzione particolare alla formazione continua e ai giovani dermatologi. Il confronto tra esperti e il dialogo tra pari rappresenteranno un’occasione preziosa per condividere dati, esperienze e riflessioni su un futuro sempre più orientato alla centralità del paziente, all’appropriatezza clinica e alla sostenibilità dei sistemi sanitari.
Firenze, con la sua storia di scienza, arte e cultura, offrirà una cornice stimolante e accogliente per rinsaldare il senso di appartenenza alla nostra Associazione, che continua a rappresentare un riferimento insostituibile per la dermatologia pubblica italiana.
Sarà per me un piacere incontrarvi numerosi, e condividere insieme tre giornate di scienza, formazione e confronto.
Vi aspetto a Firenze.
marzia caproni, Presidente del Congresso
ADOI ti offre un’opportunità unica: la possibilità di inviare il proprio contributo scientifico e partecipare attivamente al Congresso Nazionale, anche senza essere specializzandi.
Un’iniziativa che valorizza la ricerca accademica già in fase universitaria e permette ai futuri medici di entrare fin da subito nel contesto scientifico dermatologico, confrontandosi con la comunità professionale e dando spazio alle proprie idee e al proprio lavoro.